簡易檢索 / 檢索結果

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    以混成式電漿化學氣相沉積系統製備類鑽碳薄膜及其應用之研究
    • 材料科學與工程系 /107/ 碩士
    • 研究生： 洪偉智   指導教授： 柯文政
    • 本研究利用自組裝混成式化學氣相沉積系統(Hybrid Plasma CVD, HPCVD)，於矽基板成長類鑽碳膜，並調整甲烷/氫氣比例流量、工作壓力、射頻電漿瓦數、氬氣流量等製程參數，製備高硬度類鑽…
    • 點閱：268  下載：0 
    • 全文公開日期 2024/02/11 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)
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